目前抛光材料细分市场国产化率不足15％，国产替代需求强烈

《每日财报》近期持续推出了半导体系列专题文章，本篇文章继续聚焦另一大半导体材料——CMP抛光材料，CMP材料在半导体制造材料中占比7％。

分地区来看，目前大陆半导体材料市场规模在全球的占比为16％，仅次于中国台湾和韩国，为全球第三大半导体材料区域。随着半导体市场不断放量以及工艺制程不断复杂，全球CMP抛光材料市场也不断增长。

化学机械抛光（CMP）技术是晶圆制造的必须流程之一，对高精度、高性能晶圆的制造至关重要。晶圆制造主要包括7大流程，分别是扩散、光刻、刻蚀、离子注入、薄膜生长、化学机械抛光（CMP）、金属化。与传统的纯机械或纯化学的抛光方法不同，CMP工艺是通过表面化学作用和机械研磨的技术结合来实现晶圆表面微米/纳米级不同材料的去除，从而达到晶圆表面的高度（纳米级）平坦化效应，使下一步的光刻工艺得以进行。

抛光材料的组成

CMP工艺过程中所采用的设备及消耗品包括：抛光机、抛光液、抛光垫、后 CMP清洗设备、抛光终点检测及工艺控制设备、废物处理和检测设备等。其中 CMP材料主要包括抛光液、抛光垫、调节器、CMP清洗以及其他等耗材，而抛光液和抛光垫占CMP材料细分市场的80％以上，是CMP工艺的核心材料，所以我们本篇文章主要聚焦这两个细分材料市场。

本土企业中在抛光液和抛光垫领域各关注一家公司——安集科技和鼎龙股份。其中安集科技的产品包括不同系列的化学机械抛光液和光刻胶去除剂，主要应用于集成电路制造和先进封装领域，而化学机械抛光液是公司的核心业务，营收占比 80％左右。目前公司在 130-14nm 技术节点实现规模化销售，10-7nm 技术节点产品正在研发中，打破了国外厂商对集成电路领域化学机械抛光液的垄断，实现了进口替代，在半导体材料行业取得了一定的市场份额和品牌知名度，是国内CMP抛光液领域毋庸置疑的龙头，积累了众多优质客户资源，包括中芯国际、台积电、长江存储等。从未来的发展空间来看，全球CMP抛光材料市场约22亿美元，而安集科技2019年这一细分领域的收入规模仅 2.36 亿元人民币，这和中国第三大半导体材料市场的规模显然不匹配，未来国产替代仍有非常大的成长空间。

湖北鼎龙控股股份有限公司创立于2000年，以电荷调剂、聚合碳粉等产品起家，逐步做强做大。公司2013年立项 CMP 抛光垫，并被纳入了“02”专项，负责中芯国际子课题20-14nm 技术节点CMP抛光片产品的研发任务。从2019 年开始公司CMP抛光垫产品快速放量，业务拐点曙光初现，2019全年，公司的CMP垫营收约1233万元。2020年CMP抛光垫产品已经导入国内领先下游存储芯片、功率芯片以及逻辑芯片等重要晶圆制造商，其中公司的28nm 以上8英寸抛光垫获得国内存储大厂商量产订单。一季报显示，公司Q1的抛光垫营收为809万元，已完成去年全年的65％。根据全球CMP材料领先企业Cabot市场预估，预计未来全球CMP市场复制增长率约6％。随着未来国内晶圆厂大幅投产，测算预计未来5年中国CMP垫市场规模增速可超10％，至2023年可达约4.40亿美金。

公开资料显示，中国纯晶圆代工市场规模增速全球最高，高达到41％，市场规模增长至106.9亿美元，已经成为全球第二大晶圆代工市场。2018-2019年，中国新建晶圆厂数量达到高峰，2020年新建晶圆厂累计将达到20座。全球晶圆产能向中国大陆转移趋势明显，带动中国市场对上游半导体材料的需求。相对国内市场晶圆制造材料的巨大需求，国产半导体材料供给缺口巨大，国产化率只有 20％左右，抛光材料细分市场国产化率更是不足15％，国产替代需求强烈，后期逐步导入国内产业链的公司将有望迎来业绩的爆发，感兴趣的朋友可以持续追踪。

本文源自每日财报