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高聚物金属氧化物相逢,化作三维纳米线阵列
来源:研之成理 2022-12-23 340
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    ▲图 1 嵌段共聚物聚环氧乙烷-聚苯乙烯和钨硅酸的垂直堆叠,形成多层交联氧化钨纳米线阵列 (MC-WO3-NWAs)。▲图2 氧化钨纳米线阵列的元素与结构分析▲图4 合成机理

    a. 首先,PEO-b-PS 和 H4SiW12O40在 THF 溶液中共聚成球形复合胶束。其次,溶剂蒸发诱导复合球形胶束融合成柱形胶束,随后自组装成多层交联纳米结构。最后,有机-无机复合材料中有机模板的去除和 H4SiW12O40向 si 掺杂 WO3纳米线的转变。插图描述了在四氢呋喃连续蒸发的情况下,圆柱形复合胶束在固-液-气界面上组装成正交填充阵列。b) PEO-b-PS / H4SiW 圆柱形复合胶束构建的六方结构和层状结构的比较。C)建立了带负电荷的 PEO-b-PS / H4siw 圆柱形胶束(上)的堆积模型,模拟了单个自由圆柱形胶束与圆柱形胶束阵列之间的静电排斥力随交联角度(0-180度)的变化。

    邓勇辉,复旦大学化学系,教授、博士生导师,国家优秀青年基金获得者。主要从事功能多孔材料合成及其在催化、化学传感等方面的应用研究。在Chem. Soc. Rev.、J. Am. Chem. Soc.、Angew. Chem. Int Ed.、Advanced Materials等国际核心学术期刊上,发表SCI论文130多篇,论文引用超过12000次,H指数为57(Google Scholar),单篇研究论文引用超过1000次。撰写中、英文论著各一章。2017、2014年分别获得教育部自然科学奖一等奖(第二完成人)和二等奖(第一完成人)。2014-2017年连续四年入选Elsevier中国高被引用学者榜单(材料科学)、第二批中组部青年拔尖人才(2015)、国家优秀青年基金获得者(2014)、上海市青年科技英才(2014)、教育部“新世纪优秀人才”(2012)、上海市“曙光学者”(2013)等荣誉。担任Adv. Porous Mater.副主编、Chinese Chemical Letters执行副主编,申请中国发明专利32件(授权21件)。详见课题组网站:http://www.yhdenggroup.fudan.edu.cn/研之成理各版块内容汇总:1.

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